特許
J-GLOBAL ID：200903049542306178
真空吸着装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-302659
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144777
出願日： 1996年11月14日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】試料の真空吸着装置と接する面における損傷の発生を抑制することが可能な真空吸着装置を提供する。【解決手段】基部7の上面に設けた複数の微小突起4で形成された真空吸着部1と、真空吸着部1の周囲に配設されたシール部2と、真空吸着部1に接続された真空排気孔3とを含んで構成される真空吸着装置において、微小突起4の上面の縁及びシール部2の上面の縁を円弧状または直線状に面取りするか、あるいは微小突起4の上面を球面状に、シール部2の上面を断面形状が円の一部をなすように形成し、あるいは更に、真空吸着部1及びシール部2の少なくとも試料5と接触する部分を試料5より硬度が低い材料で形成する。
請求項（抜粋）：
基部の上面に設けた複数の微小突起で形成された真空吸着部と、前記真空吸着部の周囲に配設されたシール部と、前記真空吸着部に接続された真空排気孔と、を含んで構成される真空吸着装置において、前記微小突起の上面の縁及び前記シール部の上面の縁を円弧状または直線状に面取りするか、あるいは前記微小突起の上面を球面状に、前記シール部の上面を断面形状が円の一部をなすように形成することを特徴とする真空吸着装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 P
, B23Q 3/08 A
