特許
J-GLOBAL ID:200903049544918251
縦型熱処理装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
絹谷 信雄
, 金坂 憲幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-064519
公開番号(公開出願番号):特開2008-199040
出願日: 2008年03月13日
公開日(公表日): 2008年08月28日
要約:
【課題】蓋体の腐食の問題及びOリングからのアウトガスの問題を解消し得ると共にOリングの耐久性の向上が図れる縦型熱処理装置を提供する。【解決手段】処理容器2の開口端2aを閉塞する蓋体8と、蓋体上に設けられ複数枚の被処理体を保持する保持具とを備え、蓋体8は、処理容器の開口端に当接される石英製の内側蓋部17と、内側蓋部17の外面を覆う金属製の外側蓋部18とからなり、内側蓋部17の外周上側部に処理容器の開口端外周部よりも内側に凹んだ環状凹部50を、且つ内側蓋部17の外周下側部にフランジ部21を形成し、外側蓋部18に、環状凹部50に位置して内側蓋部17のフランジ部21を保持するフランジ押え27を設け、フランジ押え27の上部と下部に処理容器の開口端下面に接する第1Oリング51とフランジ部21に接する第2Oリング52とを設け、フランジ押え27の内部に冷媒通路31を設けた。【選択図】図2
請求項(抜粋):
下端が開口された石英製の処理容器と、該処理容器の下方に昇降可能に設けられ、処理容器の開口端を閉塞する蓋体と、該蓋体上に設けられ複数枚の被処理体を所定の間隔で保持する保持具と、前記処理容器の周囲に設けられた加熱手段とを備えた縦型熱処理装置において、前記蓋体は、前記処理容器の開口端に当接される石英製の内側蓋部と、該内側蓋部の外面を覆う金属製の外側蓋部とからなり、前記内側蓋部の外周上側部に前記処理容器の開口端外周部よりも内側に凹んだ環状凹部を、且つ内側蓋部の外周下側部にフランジ部を形成し、前記外側蓋部に、前記環状凹部に位置して内側蓋部のフランジ部を保持するフランジ押えを設け、該フランジ押えの上部と下部に前記処理容器の開口端下面に接する第1Oリングと前記フランジ部に接する第2Oリングとを設け、前記フランジ押えの内部に第1Oリング及び第2Oリングを冷却する冷媒通路を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/22 511Q
, H01L21/31 E
Fターム (21件):
5F045AA03
, 5F045AA20
, 5F045AB33
, 5F045AD07
, 5F045AD08
, 5F045AD09
, 5F045AD10
, 5F045AD11
, 5F045AD12
, 5F045AD13
, 5F045AD14
, 5F045AD15
, 5F045AD16
, 5F045AF01
, 5F045BB10
, 5F045BB14
, 5F045DP19
, 5F045DP28
, 5F045DQ05
, 5F045EB10
, 5F045EC01
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
熱処理用ボート及び縦型熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-058262
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
縦型炉および治具
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-180242
出願人:光洋サーモシステム株式会社
-
半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-292901
出願人:富士電機株式会社
-
特開平3-114223
-
縦型拡散炉
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-127241
出願人:日本電気株式会社
全件表示
審査官引用 (4件)
-
縦型炉および治具
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-180242
出願人:光洋サーモシステム株式会社
-
半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-292901
出願人:富士電機株式会社
-
特開平3-114223
-
縦型拡散炉
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-127241
出願人:日本電気株式会社
全件表示
前のページに戻る