特許
J-GLOBAL ID：200903049558273334
反射型マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-171311
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029794
出願日： 1993年07月12日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】反射型マスクの製造工程を簡略化し、製造時間を短縮する。【構成】基板上に形成されたX線を反射する多層膜1、該多層膜上にX線を吸収しやすい物質からなる吸収体4をパターン状に形成させた非反射部、及び前記多層膜と前記非反射部との間に設けた中間層3で構成された反射型マスクにおいて、前記中間層を、使用する波長においてX線を透過し易い物質で形成した。
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたX線を反射する多層膜、該多層膜上にX線を吸収しやすい物質からなる吸収体をパターン状に形成させた非反射部、及び前記多層膜と前記非反射部との間に設けた中間層で構成された反射型マスクにおいて、前記中間層が、使用する波長においてX線を透過し易い物質からなることを特徴とする反射型マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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