液体オゾン生成装置

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：志賀富士弥 (外1名) , 志賀富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-318033
公開番号（公開出願番号）：特開2001-139309
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】【課題】オゾンの液化速度を向上し、例えば半導体ウエーハプロセスへの応用等の分野においても実用レベルの液体オゾンを生成する。【解決手段】オゾンチャンバー内に導入されるオゾン含有酸素ガスを調節してオゾンチャンバー内圧力を53hPa〜100hPaに調整すると共に、冷却用金属ブロックを用いてオゾンチャンバーの冷却を行うことにより、オゾンの液化速度が向上する。

請求項（抜粋）：

酸素を含有するガスをオゾン化して生成したオゾン含有酸素ガスをオゾンチャンバー内に導入し、冷凍機及びコールドヘッドから成る温度制御手段により前記オゾンチャンバー下部を80〜100Kに冷却することで前記オゾンチャンバー下部にてオゾンのみを液化すると共に、液化されなかったオゾンガス及び酸素ガスを排気することで前記オゾンチャンバー下部に液体オゾンを貯留する液体オゾン生成装置において、前記オゾンチャンバー内に導入されるオゾン含有酸素ガス量を調節することにより前記オゾンチャンバー内圧力を53hPa〜100hPaに調整すると共に、前記オゾンチャンバーの下面及び下部外周を覆う冷却用金属ブロックを設け、前記オゾンチャンバー下部を前記冷却用金属ブロックを介して前記温度制御手段により冷却するよう構成したことを特徴とする液体オゾン生成装置。

IPC (2件)：

C01B 13/10 , F25J 1/00

FI (3件)：

C01B 13/10 Z , F25J 1/00 A , F25J 1/00 D

Fターム (8件)：

4D047CA09 , 4D047CA20 , 4D047DA01 , 4D047DB03 , 4D047DB05 , 4D047EA03 , 4G042CB19 , 4G042CC23

引用特許：

出願人引用 (4件)

特公平5-017164
高純度オゾンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-159720 出願人：岩谷産業株式会社
特開平4-292403

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審査官引用 (7件)

特公平5-017164
特公平5-017164
高純度オゾンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-159720 出願人：岩谷産業株式会社

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