特許
J-GLOBAL ID:200903049614699609
紫外線レーザ装置及び紫外線レーザ用ガス
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木村 高久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-272496
公開番号(公開出願番号):特開2000-294856
出願日: 1999年09月27日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】バースト運転を行う場合に、紫外線レーザ出力のバースト特性並びにスパイク特性を効率良く改善し、レーザ出力の向上化、及び安定化を図ることができること。【解決手段】Ar/Neガスボンベ13及びAr/Ne/F2 ガスボンベ14から供給されたチャンバ10内のエキシマレーザ用ガスに小型のXeガスボンベ15からキセノンガスを添加し、Xeガスセンサー16でキセノンガスの割合を検知して、ガスコントローラ18でXeガスボンベ15からチャンバ10に供給するキセノンガスの供給を制御する。
請求項(抜粋):
紫外線レーザ用ガスをチャンバ内に封入し、このチャンバ内でパルス放電を行うことにより前記紫外線用ガスを励起してパルスレーザを発振する紫外線レーザ装置において、前記チャンバ内の紫外線レーザ用ガスに所定の濃度のキセノンガスを所定量供給して、紫外線レーザ出力に生ずるバースト現象並びにスパイク現象を低減することを特徴とする紫外線レーザ装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01S 3/03 J
, H01S 3/223 E
Fターム (7件):
5F071AA06
, 5F071BB01
, 5F071HH01
, 5F071HH02
, 5F071HH03
, 5F071JJ04
, 5F071JJ05
引用特許:
前のページに戻る