特許
J-GLOBAL ID:200903049616845130

耐プラズマ性セラミックス溶射膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 木下 茂 ,  石村 理恵
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-237397
公開番号(公開出願番号):特開2009-068066
出願日: 2007年09月13日
公開日(公表日): 2009年04月02日
要約:
【課題】半導体・液晶製造用等のプラズマ処理装置部材に用いられるイットリアセラミックス系溶射膜であって、塩素系プラズマに対する耐食性の向上が図られ、ハロゲン、特に、塩素系プラズマプロセスにおいて、該セラミックスの構成原料に起因する不純物金属汚染を抑制することができる耐プラズマ性セラミックス溶射膜を提供する。【解決手段】イットリアに、ジルコニアがイットリアに対して0.5重量%以上50重量%以下、アルミナがイットリアに対して3重量%以上30重量%以下分散されてなり、開気孔率が2%以下であるセラミックス溶射膜を形成する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
イットリアに、ジルコニアがイットリアに対して0.5重量%以上50重量%以下、アルミナがイットリアに対して3重量%以上30重量%以下分散されてなり、開気孔率が2%以下であることを特徴とする耐プラズマ性セラミックス溶射膜。
IPC (1件):
C23C 4/10
FI (1件):
C23C4/10
Fターム (6件):
4K031AA01 ,  4K031AB02 ,  4K031AB09 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA04
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 耐食性セラミックス材料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-178167   出願人:株式会社日本セラテック, 太平洋セメント株式会社
  • 溶射粉及び溶射被膜
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-064249   出願人:信越化学工業株式会社

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