特許
J-GLOBAL ID：200903078090212120
溶射粉及び溶射被膜
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-064249
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080954
出願日： 2001年03月08日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：
【要約】【課題】 供給時の流動性、溶融性に優れた溶射粉を提供し、さらに、この溶射粉を用いてフッ素系や塩素系などのハロゲン化ガス或いはそのプラズマに対して耐食性に優れた溶射被膜を提供する。【解決手段】 元素の周期表3A族から選択された一種以上の元素の化合物からなり、鉄族金属化合物が酸化物換算で5ppm以下であることを特徴とする溶射粉である。該元素の化合物として、希土類酸化物が挙げられる。上記酸化物は、Al、Si、Zrから選ばれる少なくとも1種以上の元素との複合酸化物であることが好ましい。溶射粉は、平均粒径が5μm〜80μmの範囲、分散指数が0.1以上、0.7以下、比表面積が1m2/g以上、5m2/g以下とすることが好ましい。この溶射粉を溶射して、ハロゲン系プラズマ耐性を有する溶射被膜及び半導体製造装置部材用溶射被膜が得られる。
請求項（抜粋）：
元素の周期表3A族から選択された一種以上の元素の化合物からなり、鉄族金属化合物が酸化物換算で5ppm以下であることを特徴とする溶射粉。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (18件)：
4K031AA08
, 4K031AB02
, 4K031AB09
, 4K031CB02
, 4K031CB03
, 4K031CB08
, 4K031CB09
, 4K031CB14
, 4K031CB15
, 4K031CB18
, 4K031CB42
, 4K031CB43
, 4K031CB44
, 4K031CB45
, 4K031CB46
, 4K031DA01
, 4K031DA04
, 4K031EA10
