特許
J-GLOBAL ID:200903049621123860

枚葉式基板洗浄装置の薬液リサイクルシステムおよび枚葉式基板洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐野 章吾 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-161946
公開番号(公開出願番号):特開2002-353186
出願日: 2001年05月30日
公開日(公表日): 2002年12月06日
要約:
【要約】【課題】 枚葉式ウェット洗浄において、洗浄工程サイクルとの関係で効率的な薬液の再利用を実現し得る薬液リサイクル技術を提供する。【解決手段】 薬液供給回収部30は、薬液を貯蔵する2台の貯蔵タンク35,36と、これら貯蔵タンク35,36の薬液を濃度補正部31を介して循環させて清浄化処理する薬液循環部37とを備え、一方の貯蔵タンク35または36の薬液が洗浄チャンバ3に供給使用されて洗浄工程を実行している間に、他方の貯蔵タンク36または35の薬液が、薬液循環部37で循環されて、清浄化されるとともに濃度補正される。
請求項(抜粋):
基板を一枚ずつ薬液によりウェット洗浄処理する枚葉式基板洗浄装置において、使用済みの薬液を回収して再利用する薬液リサイクルシステムであって、前記枚葉式洗浄装置の洗浄チャンバに対して洗浄薬液を供給回収する薬液供給回収部と、この薬液供給回収部の薬液の濃度を補正する濃度補正部とを備えてなり、前記薬液供給回収部は、薬液を貯蔵する複数の貯蔵タンクと、これら貯蔵タンクの薬液を前記濃度補正部を介して循環させて清浄化処理する薬液循環部とを備え、前記複数の貯蔵タンクが前記薬液循環部に選択的に接続可能とされていることを特徴とする枚葉式基板洗浄装置の薬液リサイクルシステム。
IPC (2件):
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306
FI (2件):
H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/306 J
Fターム (5件):
5F043BB27 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE23 ,  5F043EE33
引用特許:
審査官引用 (5件)
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