特許
J-GLOBAL ID:200903049632894010
光学装置およびデバイス製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-273135
公開番号(公開出願番号):特開2005-236258
出願日: 2004年09月21日
公開日(公表日): 2005年09月02日
要約:
【課題】 外乱を受ける複数の光学系要素の間の位置ずれを抑制する位置決め技術を提供すること。【解決手段】 第1及び第2の要素を有する光学系と前記光学系を支持する支持部材とを含む光学装置は、前記第1の要素を含み前記第1の要素の位置をフィードバック制御する第1の制御系と、前記第2の要素を含み前記第2の要素の位置をフィードバック制御する第2の制御系とを有する。前記第1及び第2の制御系は、前記支持部材の変位と前記第1の要素の変位との間の第1の伝達関数と、前記支持部材の変位と前記第2の要素の変位との間の第2の伝達関数との差が少なくとも一部の帯域において1/10以下になるように、構成されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1及び第2の要素を有する光学系と前記光学系を支持する支持部材とを含む光学装置であって、
前記第1の要素を含み、前記第1の要素の位置をフィードバック制御する第1の制御系と、
前記第2の要素を含み、前記第2の要素の位置をフィードバック制御する第2の制御系と
を有し、前記支持部材の変位と前記第1の要素の変位との間の第1の伝達関数と、前記支持部材の変位と前記第2の要素の変位との間の第2の伝達関数との差が少なくとも一部の帯域において1/10以下になるように、前記第1及び第2の制御系が構成されていることを特徴とする光学装置。
IPC (1件):
FI (2件):
H01L21/30 531A
, H01L21/30 503F
Fターム (15件):
5F046AA23
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046CB12
, 5F046CB20
, 5F046CC13
, 5F046DA30
, 5F046DB05
, 5F046DB10
, 5F046DC07
, 5F046GA11
, 5F046GA12
, 5F046GA14
, 5F046GA20
, 5F046GB01
引用特許:
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