特許
J-GLOBAL ID：200903049739106278

プラズマ処理システム内のアーク抑制方法およびシステム

発明者：
モロズ、ポール

モロズ、ポール について

, 
ストラング、エリク

ストラング、エリク について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (5件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-517580
公開番号（公開出願番号）：特表2006-507662
出願日： 2003年06月27日
公開日（公表日）： 2006年03月02日
要約：
【課題】プラズマ処理システム内のアーク抑制方法およびシステム【解決手段】プラズマ処理のためのアーク抑制システムは、このプラズマ処理システムに結合された少なくとも1つのセンサと、少なくとも1つのセンサに結合されたコントローラを備える。コントローラが、少なくとも1つのセンサから発生された少なくとも1つの信号を使用して基板と接触するプラズマの状態を決定すると共に、アーク発生事象を抑制するためにプラズマ処理システムを制御するための、少なくとも1つのアルゴリズムを提供する。センサ間の電圧差が目標差を超えたときに、プラズマ処理システムがアーク発生の影響を受け易くなることが決定される。この状態にある間、オペレータは通知を受け、また処理を続行するか、処理を修正するか、または処理を中止するか決定がなされる。
請求項（抜粋）：
プラズマの形成を容易にするように構成された処理反応装置と、 前記処理反応装置に結合され、前記プラズマに関連する少なくとも1つの信号を発生するように構成された少なくとも1つのセンサと、前記少なくとも1つのセンサに結合されたコントローラとを備えるアーク抑制システムと、を具備するプラズマ処理システムであって、 前記コントローラは、前記少なくとも1つの信号を使用して前記プラズマ処理システムの状態を決定することと、前記状態により前記プラズマ処理システムを制御してアーク発生事象を抑制することとのうち少なくとも1つを実行させるように構成されるプラズマ処理システム。
IPC (6件)：
H01L 21/306 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46
FI (6件)：
H01L21/302 101G ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01L21/205 ,  H05H1/00 A ,  H05H1/46 A
Fターム (29件)：
4K030FA01 ,  4K030HA12 ,  4K030KA30 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  5F004BA08 ,  5F004BA14 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA08 ,  5F004CB05 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA23 ,  5F004DA24 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03 ,  5F045AA08 ,  5F045BB20 ,  5F045DP03 ,  5F045EH02 ,  5F045EH14 ,  5F045EH19 ,  5F045EH20 ,  5F045EM05
引用特許：
審査官引用 (5件)
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