特許
J-GLOBAL ID:200903079811246922
半導体製造装置の管理システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
原 謙三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-068903
公開番号(公開出願番号):特開2000-269108
出願日: 1999年03月15日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】【課題】 半導体の製造工程ラインを安定して稼働させるとともに、突発的な不良の原因を解明する。【解決手段】 半導体の製造工程ラインの各製造装置にセンサ1を設け、管理情報を常時収集する。判定器6にて、収集された管理情報が時系列の測定値パターンとして、予め登録されている設定値パターンと比較される。判定器6での比較の結果、測定値パターンの設定値パターンからの逸脱が検出された場合、指令発生器8が異常の発生を提示するとともに、測定値パターンの設定値パターンからの逸脱を解消するように、製造装置のシーケンスの調整を指令する。
請求項(抜粋):
半導体の製造工程ラインに設けられた製造装置から管理情報を常時収集するセンサと、該センサによって収集された管理情報を時系列の測定値パターンとして監視するとともに、該測定値パターンと該管理情報に応じて予め登録されている設定値パターンとを比較する監視手段と、該監視手段での比較の結果、該測定値パターンの該設定値パターンからの逸脱が検出された場合、異常の発生を提示する警報手段とを備えていることを特徴とする半導体製造装置の管理システム。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 21/02 Z
, H01L 21/205
Fターム (11件):
5F045AA08
, 5F045AC01
, 5F045BB08
, 5F045BB10
, 5F045BB20
, 5F045CA15
, 5F045GB04
, 5F045GB05
, 5F045GB06
, 5F045GB07
, 5F045GB16
引用特許: