特許
J-GLOBAL ID：200903049771531061
積層インダクタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾股 行雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-353804
公開番号（公開出願番号）：特開2001-217126
出願日： 2000年11月21日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】【課題】 生産性や歩留まりが良く、且つ高精度にL値調整が成された積層インダクタを提供する。【解決手段】 電気絶縁層とコイルパターンを交互に積層し、各コイルパターンの端部を順次接続して電気絶縁層体2中に積層方向に重畳した周回コイル3を形成する。そして、当該周回コイル3の端部を外部電極に引き出して積層インダクタを形成する。ここで、他の部分と厚みが異なる前記コイルパターンが前記周回コイル3を形成する積層体中に少なくとも1層分以上存在するように構成した。このように、任意の積層位置においてコイルパターンの厚みを部分的に変えコイルの交鎖磁束数を制御することにより、所望のL値に微調整することができる。
請求項（抜粋）：
電気絶縁層とコイルパターンが交互に積層され、各コイルパターンの端部が順次接続されて電気絶縁層体(2)中に積層方向に重畳した周回コイル(3)が形成されると共に、当該周回コイル(3)の端部が引出パターン(4,4)によって外部電極(5,5)に接続されて成る積層インダクタ(1)において、他の部分と厚みが異なる前記コイルパターンが前記周回コイル(3)を形成する積層体中に少なくとも1層分以上存在することを特徴とする積層インダクタ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01F 17/00 D
, H01F 15/10 C
