投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-054208
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250398
出願日： 1995年03月14日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】原理的に極力小さな受光面を持つ光電検出器によってもその光電検出器が破壊されることなく常に安定した高精度な被露光物体の反射光量の監視を可能とし得る投影露光装置の提供にある。【構成】光束を供給する光源手段と、その光源手段からの光束に基づいて所定の形状の二次光源を形成する二次光源形成手段と、その二次光源からの光束を集光してレチクルを照明するコンデンサー光学系と、そのレチクル上のパターンを被露光物体上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、その二次光源から被露光物体までの照明光路中に光分割手段を配置すると共に、その光分割手段にて分割された被露光物体からの反射光を光電検出する光電検出器を配置し、光電検出器の受光面をそのレチクルと光学的にほぼ共役な位置に配置した。

請求項（抜粋）：

光束を供給する光源手段と、前記光源手段からの光束に基づいて所定の形状の二次光源を形成する二次光源形成手段と、前記二次光源からの光束を集光してレチクルを照明するコンデンサー光学系と、前記レチクル上のパターンを被露光物体上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記二次光源から前記被露光物体までの照明光路中に光分割手段を配置すると共に、前記光分割手段にて分割された前記被露光物体からの反射光を光電検出する光電検出器を配置し、前記光電検出器の受光面を前記レチクルと光学的にほぼ共役な位置に配置したことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 G , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (10件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-166963 出願人：株式会社ニコン
特開平1-286418
特開昭63-284814

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