特許
J-GLOBAL ID：200903049868524400
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-035974
公開番号（公開出願番号）：特開平11-226477
出願日： 1998年02月18日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：
【要約】【課題】 撮影手段の大きなずれを検出することにより不適切な処理が施されたことを知ることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 処理に先立って基準位置REF0を設定するとともに供給検出領域130Aを設定し、位置関係情報RPとともに記憶しておく。処理時には、基準位置REF0に相当する処理時基準位置を抽出し、これと位置関係情報RPとから処理時供給検出領域を設定する。したがって、ある程度の位置ずれであれば処理時供給検出領域を追従させることができ、位置ずれに起因する不具合を防止できる。また、処理時基準位置や処理時供給検出領域を設定できないほどのずれである場合には、警報を発して不適切な処理の実施を知ることができる。
請求項（抜粋）：
基板に処理液を供給しつつ、基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板の上方にあたる供給位置と、前記基板保持手段に保持された基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能であって、前記供給位置において基板に処理液を供給する処理液供給手段と、前記供給位置にある前記処理液供給手段から処理液が供給されたことを検出可能な撮影範囲を撮影する撮影手段と、前記撮影範囲の中から基準位置を設定する基準位置設定手段と、前記撮影範囲の中から前記基準位置に相当する位置を基板を処理する際の処理時基準位置として抽出する抽出手段と、前記抽出手段が前記処理時基準位置を抽出できない場合に、そのことを報知する報知手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
B05C 11/08
, G03F 7/16 501
, H01L 21/027
, H01L 21/31
, H01L 21/02
B05C 11/08
, G03F 7/16 501
, H01L 21/31 A
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/30 564 C
