特許

J-GLOBAL ID：200903049894089118

パターン形成材料の製造方法及びパターン形成材料

発明者： 神川 弘
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-358945
公開番号（公開出願番号）：特開2006-171019
出願日： 2004年12月10日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】 パターン形成材料の製造工程において、塗布液が一時的に滞留した状態に置かれ、溶存酸素濃度が低下した状態であっても、ゲル化発生が起きない安定性の高い塗布液が得られ、感度及び解像度も良好で、高精細なパターンが得られるパターン形成材料の製造方法の提供。 【解決手段】 バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性組成物の塗布液を調製する塗布液調製工程と、前記塗布液中に、重合性化合物に対し、400ppm以上の重合禁止剤を添加させて、前記塗布液を配管により送液する塗布液送液工程と、該塗布液を支持体上に塗布して感光層を積層する感光層積層工程とを含むことを特徴とするパターン形成材料の製造方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性組成物の塗布液を調製する塗布液調製工程と、 前記塗布液中に、重合性化合物に対し、400ppm以上の重合禁止剤を添加させて、前記塗布液を配管により送液する塗布液送液工程と、 該塗布液を支持体上に塗布して感光層を積層する感光層積層工程と を含むことを特徴とするパターン形成材料の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/26 ,  H05K 3/06

FI (4件)：

G03F7/004 502 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/26 501 ,  H05K3/06 J

Fターム (31件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA18 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA00 ,  2H025CC01 ,  2H025EA01 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096CA12 ,  2H096CA16 ,  2H096LA17 ,  2H096LA30 ,  5E339AB02 ,  5E339AC01 ,  5E339BC02 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE14 ,  5E339CE16 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E339GG02

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-062565   出願人：日立化成工業株式会社
• 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-218736   出願人：日立化成工業株式会社
• 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-011487   出願人：日立化成工業株式会社
• 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-011497   出願人：日立化成工業株式会社