高周波加熱装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝本智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-113434
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306664
出願日： 1996年05月08日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】本発明は高周波加熱装置に関するもので、被加熱物を均一に加熱したり、局所的に加熱したり、複数の被加熱物の中で選択して加熱したり、簡単な構成で精度よくねらった加熱分布を得ることを目的とする。【解決手段】加熱室1内に電磁波3を放射して被加熱物2を加熱する電磁波放射手段4を有し、位置確認手段5で電磁波放射手段4の位置を確認し、制御手段6で電磁波放射手段4の位置を制御するもので、電磁波放射手段4を所望の位置に正確に制御できるので、被加熱物2を所望の仕上がり状態にすることができる。

請求項（抜粋）：

被加熱物の仕上がり状態を所望の状態にするために、加熱室内に電磁波を放射する移動自在の電磁波放射手段の位置を確認し、所望の仕上がり状態が得られる位置にくるように制御することを特徴とする高周波加熱装置。

IPC (3件)：

H05B 6/74 , F24C 7/02 511 , H05B 6/72

FI (3件)：

H05B 6/74 E , F24C 7/02 511 D , H05B 6/72 A

引用特許：

審査官引用 (6件)

高周波加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-222422 出願人：株式会社日立ホームテック
電子レンジおよびその能動負荷整合システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-256291 出願人：シャープ株式会社
電子レンジ
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-063844 出願人：株式会社東芝

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