基板洗浄装置のゲート装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐野章吾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-357109
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163148
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】単一の密閉された洗浄室内でウエハを一枚ずつカセットレスでウェット洗浄することにより、パーティクルの再付着等もなく高い清浄度雰囲気での洗浄を高精度に行なう基板洗浄装置において、密閉可能な処理チャンバの基板搬入出口を構成するゲート装置を提供する。【解決手段】処理チャンバ15のゲート開口32において、ウエハWの搬入出方向へ所定間隔をもって配置されるとともに、独立して上下方向へ開閉可能な一対の昇降ゲート30,31を備えてなるダブルゲート構造とされ、これにより、ゲート開口32が気密・水密性をもって開閉制御される。

請求項（抜粋）：

基板を一枚ずつ複数の洗浄液で洗浄処理する枚葉式の洗浄装置において、密閉可能な単一の処理チャンバの基板搬入出口を構成するものであって、基板搬入出方向へ所定間隔をもって配置されるとともに、独立して上下方向へ開閉可能な一対の昇降ゲートを備えてなるダブルゲート構造とされていることを特徴とする基板洗浄装置のゲート装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 C , H01L 21/304 341 N

引用特許：

審査官引用 (5件)

洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-153280 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-075342
半導体プロセスの改良方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-520051 出願人：インシンク・システムズ・インコーポレーテッド

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