特許
J-GLOBAL ID:200903050106734960

蛍光X線分析装置の検出下限モニタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松下 義治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-318763
公開番号(公開出願番号):特開2006-132945
出願日: 2004年11月02日
公開日(公表日): 2006年05月25日
要約:
【課題】 試料のサイズの変化や、主成分の違いによる感度の変化、共存元素の影響によるバックグランドの大きさの変化があった場合でも毎回同じ検出下限で測定できる蛍光X線装置を提供する。【解決手段】 試料サイズの変化や共存元素によるバックグランド強度の変化9をリアルタイムに測定し、測定時間を自動的に変化させ検出下限を一定に保つ。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
測定試料を励起するX線源と、測定試料からのX線を検出するX線検出器と、そのX線を波形成形・信号処理を行う部分で構成され、X線のエネルギ情報をスペクトラムとし、そのスペクトラム情報から測定試料の成分を分析する蛍光X線分析装置において、スペクトル上に現れる分析対象元素のピーク周辺のバックグランド強度が変化しても、そのバックグランド強度をリアルタイムに測定し、検出下限算出式に代入することにより必要な検出下限を達成するための測定時間をリアルタイムに算出・設定するシステムを搭載した蛍光X線分析装置。
IPC (1件):
G01N 23/223
FI (1件):
G01N23/223
Fターム (12件):
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA14 ,  2G001CA01 ,  2G001EA03 ,  2G001FA09 ,  2G001GA01 ,  2G001KA01 ,  2G001LA05 ,  2G001MA10 ,  2G001NA12 ,  2G001NA16
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 蛍光X線分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-317633   出願人:アワーズテック株式会社
審査官引用 (2件)
  • 特開平3-221852
  • X線元素分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-311853   出願人:日本電子株式会社, 日本電子エンジニアリング株式会社
引用文献:
審査官引用 (2件)

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