レジスト組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-084730
公開番号（公開出願番号）：特開平8-254820
出願日： 1995年03月16日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【目的】新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】酸分解性を有する化合物及び多価フェノールの部分スルホン酸エステルを含むレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が多価フェノールの部分スルホン酸エステルであることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (6件)

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