特許
J-GLOBAL ID：200903050164145185
収差計測方法及びそれを用いた投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-112170
公開番号（公開出願番号）：特開2005-302777
出願日： 2004年04月06日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 サンプル作成作業が短時間かつ簡便で、サンプルの測定も特別な測定機を必要とせず、短時間の測定時間でZernike係数に対応する投影レンズの波面収差量を算出することができる収差測定方法及びそれを用いた露光装置を提供する。【解決手段】 テストパターンを投影光学系を介し基板面上に結像させ、形成したテストパターン像の位置ずれ量から投影光学系の収差を測定する収差計測方法であって、投影光学系の瞳領域の最適化を投影光学系を含む投影露光装置側で行う瞳領域の最適化手段と、位置ずれ測定用のテストパターンが形成された基盤面の裏面にテストパターンを照明する照明光の有効光源の一部を遮光する遮光パターンとを用いて波面収差を測定することを特徴とする収差測定方法。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
テストパターンを投影光学系を介し基板面上に結像させ、形成したテストパターン像の位置ずれ量から投影光学系の収差を測定する収差計測方法であって、投影光学系の瞳領域を最適化することにより、テストパターンを介して投影光学系の最適な瞳領域を通過する光束を、最適化された投影光学系の瞳領域を通過させ、形成したテストパターン像の位置ずれを計測し、収差計測を行うことを特徴とする収差計測方法において、投影光学系の瞳領域の最適化を投影光学系を含む投影露光装置側で行う瞳領域の最適化手段と、位置ずれ測定用のテストパターンが形成された基盤面の裏面にテストパターンを照明する照明光の有効光源の一部を遮光する遮光パターンとによって、行うことを特徴とする収差測定方法。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G01M11/02
, G03F7/20
H01L21/30 516A
, G01M11/02 B
, G03F7/20 521
, H01L21/30 515D
2G086HH06
, 5F046BA03
, 5F046CB25
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046DB05
出願人引用 (5件)
-
米国特許第5828455号
-
米国特許第5978085号
-
特許第3297423号
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審査官引用 (2件)
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