特許
J-GLOBAL ID：200903050236521756
液晶基板製造用画像処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-040657
公開番号（公開出願番号）：特開平8-234226
出願日： 1995年02月28日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：
【要約】【目的】 外乱等に対する影響を受けにくく、高速に精度良くセルマークや、セル及びTAB-ICの電極を検出する。【構成】 ガラス基板表面を撮像する撮像手段(16)と、ガラス基板表面の画像情報を2値化画像情報に変換する変換手段、各2値化画像情報に対してラベル付けを行なうラベル付け手段、各2値化画像情報の外接長方形を演算する演算手段、各外接長方形と、位置決め用マークの外接長方形とからラベルを選択するラベル選択手段、選択されたラベルの外接長方形の重心座標を算出する重心座標算出手段、外接長方形の重心座標近傍の所定範囲内の面積と、選択されたラベルの面積との比率を示す第1の比率と、外接長方形の所定範囲内の面積と、位置決め用マークとの比率を示す第2の比率とから位置決め用マークの位置を決定する決定手段と(17)を具備した液晶基板製造用画像処理装置である。
請求項（抜粋）：
周縁部に少なくとも1つの電極を有し、且つ位置決め用マークが表面に設けられた液晶基板の電極に、前記位置決め用マークを基に位置決めを行ない駆動用集積回路を連続的に接続する液晶基板製造用画像処理装置において、前記液晶基板表面を撮像する撮像手段と、前記撮像手段にて撮像された前記液晶基板表面の画像情報を予め定められたしきい値により2値化画像情報に変換する2値化画像情報変換手段と、前記2値化画像情報変換手段にて変換された各2値化画像情報に対してラベル付けを行なうラベル付け手段と、前記ラベル付け手段にてラベル付けされた各2値化画像情報の外接長方形を演算する外接長方形演算手段と、前記外接長方形演算手段にて演算された各外接長方形と、予め定められた前記位置決め用マークの外接長方形とから所定の条件を満たす2値化画像情報のラベルを選択する2値化画像情報ラベル選択手段と、前記2値化画像情報ラベル選択手段により選択されたラベルに対応する2値化画像情報の外接長方形の重心座標を算出する重心座標算出手段と、前記重心座標算出手段により算出された2値化画像情報ラベルの外接長方形の重心座標近傍の所定範囲内の面積と、前記所定範囲内における選択されたラベルに対応する2値化画像情報の面積との比率を示す第1の比率と、予め定められた前記位置決め用マークの外接長方形の重心座標を中心とした所定範囲内の面積と、前記所定範囲内における前記位置決め用マークとの比率を示す第2の比率とから前記位置決め用マークの位置を決定する位置決め用マーク位置決定手段とを具備したことを特徴とする液晶基板製造用画像処理装置。
IPC (4件)：
G02F 1/1345
, G01B 11/00
, G02F 1/13 101
, G06T 7/00
G02F 1/1345
, G01B 11/00 H
, G02F 1/13 101
, G06F 15/62 405 B
