特許

J-GLOBAL ID：200903050323256155

ポジ型レジスト組成物

発明者： 上西 一也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-267429
公開番号（公開出願番号）：特開2003-076023
出願日： 2001年09月04日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：

【要約】【課題】 半導体デバイスの製造において、ArFやKrFを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、ラインエッジラフネスが改善され、さらに解像力、レジスト形状、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】 側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー及び活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、及び(b)活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物に於いて上記(a)が一般式(A)で表される基を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】R1は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基を表す。複数のR1は同一であっても異なっていてもよい。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F230/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F230/08 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (40件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07R ,  4J100AJ02S ,  4J100AK32R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL86R ,  4J100AM47P ,  4J100AR11P ,  4J100BA02R ,  4J100BA02S ,  4J100BA15P ,  4J100BA80P ,  4J100BA80Q ,  4J100BA81P ,  4J100BA81Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC53S ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 次世代リソグラフィー用の高分解能レジスト
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-572502   出願人：ユニバーシティオブノースカロライナアットシャルロット, ユニバーシティオブコネチカット, ゴンサルベスケネスイー.
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-345773   出願人：日本電信電話株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-342380   出願人：信越化学工業株式会社
• シリコーン樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-089441   出願人：新日鐵化学株式会社