特許
J-GLOBAL ID:200903050353303786
レジスト用剥離液組成物
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
服部 平八
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-246711
公開番号(公開出願番号):特開平8-087117
出願日: 1994年09月16日
公開日(公表日): 1996年04月02日
要約:
【要約】【構成】(a)Nーアルキルアルカノールアミン50〜90重量%と(b)1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン及びジエチレングリコールモノアルキルエーテルから選ばれる少なくとも1種50〜10重量%からなる組成物、及び前記組成物にさらに配合剤を配合したレジスト剥離液組成物。【効果】本発明のレジスト用剥離液組成物は、安全性、剥離性、腐食防止性等の性質に優れ、しかも過酷な剥離条件下においても安定に剥離作用を持続し、高品質の半導体素子や液晶パネル素子を製造できる。
請求項(抜粋):
(a)Nーアルキルアルカノールアミン50〜90重量%と(b)1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン及びジエチレングリコールモノアルキルエーテルから選ばれる少なくとも1種50〜10重量%を含有することを特徴とするレジスト用剥離液組成物。
IPC (2件):
引用特許:
審査官引用 (13件)
-
特開平4-289866
-
フォトレジスト剥離剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-338929
出願人:ナガセ電子化学株式会社
-
特開昭64-042653
-
フォトレジスト剥離剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-069927
出願人:ナガセ電子化学株式会社
-
特開昭64-081950
-
特開昭63-050838
-
特開昭64-081949
-
特開平4-124668
-
特開昭57-165834
-
特開平4-289866
-
特開昭64-042653
-
特開昭63-050838
-
特開平4-124668
全件表示
前のページに戻る