特許
J-GLOBAL ID：200903050357084256

露光装置

発明者：
細田 真希

細田 真希 について

, 
村木 真人

村木 真人 について

, 
太田 洋也

太田 洋也 について

, 
依田 晴夫

依田 晴夫 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について

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株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (4件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-092114
公開番号（公開出願番号）：特開2004-303794
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】光学特性を容易に精度良く補正できるマルチビーム式の露光装置の提供。【解決手段】複数の電子ビームを用いてウエハ118を露光する電子ビーム露光装置において、複数の電子ビームの各々の位置を独立に偏向可能なマルチ偏向器アレイ105,106と、ウエハ118に露光すべきパターンデータとを用いて、複数の電子ビームの各々の位置ずれを補正する。具体的には、パターンデータに基づいて複数の電子ビームの各々を所定の露光位置に偏向させる際にその偏向位置に依存しない静的な位置ずれをマルチ偏向器アレイ105,106により補正すると共に、この偏向位置に依存した動的な位置ずれと静的な位置ずれとの差をパターンデータにより補正する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の荷電粒子線を用いて基板を露光するマルチビーム方式の露光装置において、 前記複数の荷電粒子線の各々の基板に対する入射位置を独立に偏向可能な偏向手段と、 前記基板に露光すべきパターンデータを生成する生成手段と、 前記偏向手段と前記生成手段とにより前記複数の荷電粒子線の各々の位置ずれを補正する補正手段とを具備することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 541D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 541W
Fターム (15件)：
5F056AA07 ,  5F056AA12 ,  5F056AA17 ,  5F056BA08 ,  5F056BB01 ,  5F056CB13 ,  5F056CB16 ,  5F056CC04 ,  5F056CD01 ,  5F056CD02 ,  5F056CD03 ,  5F056EA03 ,  5F056EA04 ,  5F056EA06 ,  5F056EA08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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