特許
J-GLOBAL ID:200903050366151896
二値化用パターン作成方法,二値化用パターンおよび二値化用パターン作成プログラム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
真田 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-374072
公開番号(公開出願番号):特開2003-163806
出願日: 2001年12月07日
公開日(公表日): 2003年06月06日
要約:
【要約】【課題】 集中型の二値化用パターンを自動的に作成できるほか、最小の二値化用パターンを簡便に作成することができるようにする。【解決手段】 二値化用パターンの基本パターンの形状を演算により作成する基本パターン形状作成ステップF10と、基本パターンを構成するピクセルの点灯順序を決定する点灯順序決定ステップF20と、基本パターンに基づいて、二値化用パターンとして機能する矩形状パターンを作成する矩形状パターン作成ステップF30とをそなえる。
請求項(抜粋):
多値画像の二値化に用いられる二値化用パターンの作成方法であって、該二値化用パターンの基本パターンの形状を演算により作成する基本パターン形状作成ステップと、該基本パターンを構成するピクセルの点灯順序を決定する点灯順序決定ステップと、該基本パターンに基づいて、該二値化用パターンとして機能する矩形状パターンを作成する矩形状パターン作成ステップとをそなえることを特徴とする、二値化用パターン作成方法。
IPC (2件):
H04N 1/405
, G06T 5/00 200
FI (2件):
G06T 5/00 200 A
, H04N 1/40 C
Fターム (21件):
5B057AA11
, 5B057CA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB02
, 5B057CB07
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC01
, 5B057CE13
, 5B057CH01
, 5C077LL19
, 5C077MP01
, 5C077NN04
, 5C077NN07
, 5C077NN09
, 5C077NP01
, 5C077PQ12
, 5C077RR02
, 5C077TT02
引用特許:
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