特許
J-GLOBAL ID：200903050368710230

染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター

発明者：
保坂 和義

保坂 和義 について

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周藤 真理子

周藤 真理子 について

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鈴木 正睦

鈴木 正睦 について


出願人/特許権者：
日産化学工業株式会社

日産化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-233104
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099747
出願日： 2004年08月10日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 カラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めても異物発生等の問題が発生しないカラーレジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターを提供する。【解決手段】 ケトール系溶剤を含む染料含有レジスト組成物。樹脂、光酸発生剤又は光塩基発生剤、架橋性化合物、染料、及びケトール系溶剤を含有するネガ型レジスト組成物。樹脂、光ラジカル発生剤、架橋性化合物、染料及びケトール系溶剤を含有するネガ型レジスト組成物。樹脂、光酸発生剤、架橋性化合物、染料及びケトール系溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。ケトールがβ-ヒドロキシケトンであるレジスト組成物。ケトールが4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンであるレジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ケトール系溶剤を含む染料含有レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  H01L27/14
FI (5件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/004 505 ,  G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505 ,  H01L27/14 D
Fターム (32件)：
2H025AA18 ,  2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CC03 ,  2H025CC13 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H048BA02 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H048BB46 ,  2H091FA02X ,  2H091FA02Y ,  2H091FA02Z ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091LA01 ,  2H091LA07 ,  4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118FA06 ,  4M118GC07 ,  4M118GC17
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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