特許
J-GLOBAL ID：200903050392254954
振動片の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-093925
公開番号（公開出願番号）：特開2002-290181
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：
【要約】【課題】生産コストを上昇させることなく、均一なレジスト膜を形成し、電極のパターンのフォトリソ精度を高め、穴開き不良を抑えた高精度な励振電極をもった振動片の製造方法を提供すること。【解決手段】基部110と、この基部から吐出して形成されている振動腕部121,122とを有する振動片に、電極パターンを、超微粒子としてフォトレジスト132aに高電圧を印加し、接地電極135上に載置された水晶ウェハの表面に静電塗布して形成されたレジスト膜137をエッチングマスクとして用いたフォトリソ加工により形成する。
請求項（抜粋）：
基部とこの基部から突出して形成されている振動腕部とを有し、前記基部と前記振動腕部に電極を形成する振動片の製造方法であって、前記基部を構成する基板表面に電極層を形成し、微粒子からなるフォトレジストに電圧を印加し、前記基板の表面に前記フォトレジスト粒子を塗布し、前記フォトレジストをエッチングマスクとしてフォトリソ加工を行うことにより、前記基部と前記振動腕部に電極を形成することを特徴とする振動片の製造方法。
Fターム (1件)：
引用特許：
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