特許
J-GLOBAL ID：200903050411452258
微細構造転写装置、スタンパおよび微細構造の製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
磯野 道造
, 多田 悦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-061366
公開番号（公開出願番号）：特開2008-221552
出願日： 2007年03月12日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：
【課題】被転写体全面に一回の加圧で微細構造を転写でき、かつスタンパや被転写体の端部に局所的な負荷をかけることなく、同一スタンパで繰り返し転写を可能とする微細構造転写装置を提供する。【解決手段】本発明は、微細パターン2aが形成されたスタンパ2と被転写体1とを接触させて、被転写体1の表面にスタンパ2の微細パターン2aを転写した後、スタンパ2を被転写体1から剥離する微細構造転写装置において、スタンパ2は微細パターン2aの形成面の外周部に凹部2bが形成され、スタンパ2の外径Φ3は被転写体1の外径Φ2よりも大きく、かつ微細パターン2aの形成面の外径Φ1は被転写体1の外径Φ2よりも小さいことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
微細パターンが形成されたスタンパと被転写体とを接触させて、前記被転写体の表面に前記スタンパの微細パターンを転写した後、前記スタンパを前記被転写体から剥離する微細構造転写装置において、
前記スタンパは微細パターン形成面の外周部の少なくとも一部に凹部が形成され、
前記スタンパの外径は前記被転写体の外径よりも大きく、かつ前記微細パターン形成面の外径は前記被転写体の外径よりも小さいことを特徴とする微細構造転写装置。
IPC (3件)：
B29C 59/02
, G11B 5/84
, H01L 21/027
B29C59/02 B
, G11B5/84 Z
, H01L21/30 502D
4F209AD08
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AR12
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 4F209PQ14
, 5D112AA02
, 5D112AA05
, 5D112AA18
, 5D112AA19
, 5D112AA24
, 5D112BA10
, 5D112GA00
, 5F046AA28
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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