特許
J-GLOBAL ID：200903050447420212

ウエハ処理装置

発明者：
岩田 義樹

岩田 義樹 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について

, 
キヤノン販売株式会社

キヤノン販売株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-030848
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221162
出願日： 1994年02月03日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 室温近辺で精密に温度調整されたウエハの温度を変化させることなく一定の温度状態でウエハの処理が行なえるようにする。【構成】 ウエハを冷却して所定の温度となるように温度調整する温調手段30と、これによって温度調整されたウエハに所定の処理を施す処理手段40と、これら温調手段と処理手段との間でウエハの受渡しおよび搬送を行なう搬送手段とを備えたウエハ処理装置において、前記温調手段と処理手段との間でのみ用いられる専用の搬送手段5を具備する。
請求項（抜粋）：
ウエハを冷却して所定の温度となるように温度調整する温調手段と、これによって温度調整されたウエハに所定の処理を施す処理手段と、これら温調手段と処理手段との間でウエハの受渡しおよび搬送を行なう搬送手段とを備えたウエハ処理装置において、前記温調手段と処理手段との間でのみ用いられる専用の搬送手段を具備することを特徴とするウエハ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 562 ,  H01L 21/30 569 D
引用特許：
審査官引用 (4件)
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