特許
J-GLOBAL ID：200903050569906361

感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターン形成方法

発明者：
佐藤 弘章

佐藤 弘章 について

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勝間 勝彦

勝間 勝彦 について

, 
辻本 篤志

辻本 篤志 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-139335
公開番号（公開出願番号）：特開2005-321587
出願日： 2004年05月10日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
【課題】 青紫色レーザー露光による低露光条件下においても、高感度、高解像力、高細線密着性、パターン形成性を有する感光性樹脂組成物及びフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 露光波長が390〜420nmのレーザー露光機で露光する際に用いる感光性樹脂組成物であって、カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)及び、ペリレン、ナフト〔2,3-a〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔b,def〕クリセン、9,10-ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも1種の化合物(D)を含有してなる感光性樹脂組成物及びフォトレジストフィルム、それを用いたレジストパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
露光波長が390〜420nmのレーザー露光機で露光する際に用いる感光性樹脂組成物であって、カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)及び、ペリレン、ナフト〔2,3-a〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔b,def〕クリセン、9,10-ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも1種の化合物(D)を含有してなることを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F7/033 ,  C08F2/50 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027
FI (4件)：
G03F7/033 ,  C08F2/50 ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/027 501
Fターム (63件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB11 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC42 ,  2H025BC43 ,  2H025BC51 ,  2H025BC92 ,  2H025CA28 ,  2H025CA41 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CB51 ,  2H025DA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J011AA05 ,  4J011QA02 ,  4J011QA03 ,  4J011QA05 ,  4J011QA06 ,  4J011QA08 ,  4J011QA09 ,  4J011QA12 ,  4J011QA13 ,  4J011QA18 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA25 ,  4J011QA32 ,  4J011QA33 ,  4J011QA34 ,  4J011QA38 ,  4J011QA42 ,  4J011QA46 ,  4J011SA06 ,  4J011SA07 ,  4J011SA14 ,  4J011SA16 ,  4J011SA17 ,  4J011SA19 ,  4J011SA22 ,  4J011SA24 ,  4J011SA25 ,  4J011SA26 ,  4J011SA28 ,  4J011SA29 ,  4J011SA32 ,  4J011SA34 ,  4J011SA38 ,  4J011SA54 ,  4J011SA58 ,  4J011SA62 ,  4J011SA64 ,  4J011SA72 ,  4J011SA78 ,  4J011SA83 ,  4J011SA84 ,  4J011UA02
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
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