特許
J-GLOBAL ID：200903060321755192

感光性樹脂組成物およびその用途

発明者：
高坂 英治

高坂 英治 について

, 
青木 慶

青木 慶 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-297327
公開番号（公開出願番号）：特開平10-123708
出願日： 1996年10月17日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 レジストの金属基板への密着性、感光性(感度)に優れ、更には現像時のスラッジの発生量が少なく、かつ現像液の抑泡性にも優れた感光性樹脂組成物及びそのフォトレジストフィルムを提供する。【解決手段】 ベースポリマー(A)、特定の化合物を含有するエチレン性不飽和化合物(B)例えば2-エチルヘキシルカルビトールアクリレート(B1)/ビスフェノールAポリオキシエチレンジメタクリレート(B3)/ポリプロピレングリコールジアクリレートの混合物及び9-フェニルアクリジンと特定の化合物を含有する光重合開始剤(C)例えば9-フェニルアクリジン(C1)/N-フェニルグリシン(C2)/ベンゾフェノン(C3)/P,P′-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(C3)/ヘキサアリールイミダゾール二量体の混合物を主成分とする。
請求項（抜粋）：
α,β-不飽和カルボキシル基含有モノマーを共重合成分とするバインダーポリマー(A)、下記化1で示される化合物(B1)および/または化2で示される化合物(B2)を含有するエチレン性不飽和化合物(B)、【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基で、R2は炭素数4以上の飽和炭化水素で、nは2〜5の整数、mは1〜14の整数である。)【化2】(式中、R1は水素原子又はメチル基で、R3は炭素数6〜10のアルキル基で、nは2〜5の整数、lは1〜6の整数である。)9-フェニルアクリジン(C1)及び下記化3で示される化合物(C2)を含有する光重合開始剤(C)、【化3】(式中、R4はアルキル基で置換されていてもよいフェニル基で、R5は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基である。)を主成分とすることを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/027 502 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/033 ,  H05K 3/06
FI (6件)：
G03F 7/027 502 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/033 ,  H05K 3/06 J ,  H05K 3/06 H
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (10件)
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