特許
J-GLOBAL ID：200903050629339186

蛍光体の表面処理方法及び蛍光膜

発明者：
木村 恒夫

木村 恒夫 について

, 
内田 博

内田 博 について

, 
小寺 昇

小寺 昇 について

, 
三浦 典夫

三浦 典夫 について


出願人/特許権者：
化成オプトニクス株式会社

化成オプトニクス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-377164
公開番号（公開出願番号）：特開2001-181620
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：
【要約】【課題】 経時的に発光輝度維持率の良好な蛍光体の製造方法及び蛍光膜を提供しようとするものである。【解決手段】 表面にシラザンを付着させた蛍光体を加熱し、上記シラザンを熱分解してシリカ皮膜を生成させることにより、上記蛍光体の表面にシリカの皮膜を被覆することを特徴とする蛍光体の表面処理方法、並びにこの方法により得られた蛍光体からなる蛍光体層を支持体上に設ける。
請求項（抜粋）：
表面にシラザンを付着させた蛍光体を加熱して上記シラザンを熱分解し、シリカを生成させることにより上記蛍光体の表面にシリカの皮膜を被覆することを特徴とする蛍光体の表面処理方法。
IPC (4件)：
C09K 11/08 ,  C09K 11/56 CPC ,  H01J 29/20 ,  H01J 31/12
FI (4件)：
C09K 11/08 G ,  C09K 11/56 CPC ,  H01J 29/20 ,  H01J 31/12 C
Fターム (13件)：
4H001CA01 ,  4H001CA06 ,  4H001CC11 ,  4H001XA16 ,  4H001XA30 ,  4H001YA13 ,  4H001YA29 ,  5C036EE01 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EF09 ,  5C036EG36 ,  5C036EH12
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM