透明導電膜の形成方法及び透明導電膜

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-229008
公開番号（公開出願番号）：特開2006-049107
出願日： 2004年08月05日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：

【課題】塗布膜に酸化性雰囲気中にてプラズマまたは電磁波を照射することにより、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。【解決手段】本発明の透明導電膜の形成方法は、平均一次粒子径が1nm以上かつ200nm以下の酸素欠損型金属酸化物微粒子を含む塗布液をガラス基板、プラスチック基板等の基材11上に塗布して塗布膜12とし、この塗布膜12に酸化性雰囲気中にてプラズマPを照射することにより、基材11上に透明導電膜14を形成することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

平均一次粒子径が1nm以上かつ200nm以下の酸素欠損型金属酸化物微粒子を含む塗布液を基材上に塗布して塗布膜とし、この塗布膜に酸化性雰囲気中にてプラズマまたは電磁波を照射することにより、前記基材上に透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の形成方法。

IPC (2件)：

H01B 13/00 , H01B 5/14

FI (2件)：

H01B13/00 503B , H01B5/14 A

Fターム (6件)：

5G307FA01 , 5G307FB01 , 5G307FC09 , 5G323BA02 , 5G323BB01 , 5G323BC03

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭60-220507号公報
透明導電膜および表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-182874 出願人：住友大阪セメント株式会社

審査官引用 (4件)

透明導電膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-211770 出願人：富士写真フイルム株式会社
低抵抗透明導電膜の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-050299 出願人：株式会社アルバック
特開平2-120374

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