特許
J-GLOBAL ID：200903078630223630

透明導電膜の製造方法

発明者：
平井 博幸

平井 博幸 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-211770
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055363
出願日： 2002年07月19日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】基板上に透明導電膜を形成する場合の高温での熱処理を不要とし、耐熱性の低いプラスチック基板にも形成でき、しかも簡易・迅速にオンデマンドのパターニングが可能な透明導電膜の製造方法を提供する。【解決手段】金属酸化物、金属水酸化物及び金属炭酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一つの金属化合物から構成されるナノ粒子を含有するコロイド分散物を、インクジェット法により基板に吐出させ、焼成してなる透明導電膜の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
金属酸化物、金属水酸化物及び金属炭酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一つの金属化合物から構成されるナノ粒子を含有するコロイド分散物を、インクジェット法により基板に吐出させ、焼成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
IPC (3件)：
H01B13/00 ,  H01B5/14 ,  H01L21/288
FI (4件)：
H01B13/00 503B ,  H01B13/00 503D ,  H01B5/14 A ,  H01L21/288 M
Fターム (12件)：
4M104AA09 ,  4M104BB36 ,  4M104DD51 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC03 ,  5G323BA02 ,  5G323BA05 ,  5G323BB06 ,  5G323BC03 ,  5G323CA04 ,  5G323CA05
引用特許：
審査官引用 (6件)
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