特許
J-GLOBAL ID：200903050652820576
カラーフィルタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-532660
公開番号（公開出願番号）：特表2000-506996
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：
【要約】基板(典型的には、固体撮像素子または液晶表示素子)には、基板上にフォトレジスト層を形成し、フォトレジストを露光および現像して、フォトレジスト層の現像後に残される部分からフィルタ素子を製造することによって、フィルタが提供される。フォトレジスト層の現像後、基板は、フォトレジストに架橋結合し、またフォトレジストの基板への接着を容易にし得るシリル化化合物により処理される。好適なシリル化化合物はヘキサメチルシクロトリシリザンである。
請求項（抜粋）：
基板上にフィルタを形成するプロセスであって、 フォトレジストと第1の色素とからなる第1フォトレジスト組成物の層を該基板上に形成する工程と、 該第1フォトレジスト組成物の層の一部を放射露光して、該フォトレジスト組成物の露光部分の溶解度を変更させる工程と、 該第1フォトレジスト組成物の層の該露光部分および非露光部分のうちの一方を該基板から除去することによって、該第1フォトレジスト組成物の露光層を現像する工程と、 これにより該第1フォトレジスト組成物の層の残された部分から第1フィルタ素子を生成する工程と、 該基板上に該フィルタ素子を形成した後、該基板を、少なくとも2つの官能基を有するシリル化化合物により処理する工程であって、該シリル化化合物は、該フォトレジストを架橋結合し、また該フォトレジストの該基板への接着を容易にし得る、工程と を包含するプロセスであって、 次に該第1フィルタ素子が形成された該基板上に、フォトレジストと第2の色素とを包含する第2フォトレジスト組成物の層を形成する工程であって、該第2の色素は、該第1の色素とは異なる放射吸収特性を有する、工程と、 該第2フォトレジスト組成物の層の一部を放射露光して、該第2フォトレジスト組成物の露光部分の溶解度を変更させる工程と、 該第2フォトレジスト組成物の層の該露光部分および非露光部分のうちの一方を該基板から除去することによって、該第2フォトレジスト組成物の露光層を現像する工程と、 これにより該第2フォトレジスト組成物の層の残された部分から該第2フィルタ素子を生成する工程と を包含するプロセス。
IPC (4件)：
G03F 7/38 512
, G02B 5/20 101
, G03F 7/004 505
, G03F 7/26 511
G03F 7/38 512
, G02B 5/20 101
, G03F 7/004 505
, G03F 7/26 511
