特許
J-GLOBAL ID：200903050668943023
空気層を含む反射膜を用いたレーザーダイオード及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-148028
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031899
出願日： 2002年05月22日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 空気を反射膜として使用して共振するレーザーに対する反射率の差を高めたレーザーダイオード及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板31と、前記基板上に形成されたレーザー発振層32と、前記レーザー発振層上に形成された上部電極と、前記レーザー発振層の一側端面に形成された反射膜35とを含むレーザーダイオードにおいて、前記反射膜は空気層33を含むことを特徴とするレーザーダイオードを提供し、反射膜の積層数を減少させつつレーザーダイオードのスレショルド電圧を低め、高出力レーザーを実現できる。
請求項（抜粋）：
基板と、前記基板上に形成されたレーザー発振層と、前記レーザー発振層上に形成された上部電極と、前記レーザー発振層の一側端面に形成された反射膜とを含むレーザーダイオードにおいて、前記反射膜は空気層を含むことを特徴とするレーザーダイオード。
Fターム (6件)：
5F073AA85
, 5F073BA04
, 5F073CB20
, 5F073DA33
, 5F073EA23
, 5F073EA24
