特許
J-GLOBAL ID：200903050697606010

画像形成方法及び装置

発明者：
サンドストレム、トルブイェルン

サンドストレム、トルブイェルン について


出願人/特許権者：
マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット

マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  岩本 行夫 ,  吉田 裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-570186
公開番号（公開出願番号）：特表2005-518659
出願日： 2003年02月13日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
本発明は、放射に敏感な材料上にパターンを形成する装置に関し、装置は、放射ビームを形成する放射源と、前記放射源からの少なくとも1つのビームを、前記放射に敏感な材料上で走査する走査要素と、入力パターン・データファイルに従って、走査中に、前記少なくとも1つのビームを変調する変調器とを備え、ビームの前記変調器は、加工品上に可干渉性のサブ画像を作成し、いくつかのサブ画像は、非可干渉的に重ね合わされて、最終画像が作成される。本発明はまた、加工品をパターニングする方法及びそのような加工品に関する。
請求項（抜粋）：
画像平面に配置され、電磁放射に敏感な層で少なくとも部分的に被覆された加工品をパターニングする装置であって、 対象物(object)平面上に電磁放射を放出する放射源(source)と、 複数のオン-オフ対象物画素を備えて、前記対象物平面において、前記電磁放射を受け取り、入力パターン描写に従って前記電磁放射を変調し、かつ、前記電磁放射を前記加工品に向けて中継するようになされたSLMと、 前記SLMから前記加工品上への中継されたパターン描写に対して前記加工品の移動を同期させる同期化器と、 前記SLM及び前記加工品の間に配置されており、前記中継されたパターン描写を偏向するようになされている画像偏向要素とを備える装置。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G02B26/10 ,  G03F7/20
FI (4件)：
H01L21/30 529 ,  G02B26/10 102 ,  G02B26/10 108 ,  G03F7/20 501
Fターム (9件)：
2H045AA01 ,  2H045AF11 ,  2H097AA03 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  5F046AA28 ,  5F046BA07 ,  5F046CB01 ,  5F046CB23
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 画像記録装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-269792   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特許第6312134号
  • 投影露光装置および方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-106054   出願人：キヤノン株式会社

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