特許
J-GLOBAL ID:200903050757979740
偏光板の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
皿田 秀夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-365645
公開番号(公開出願番号):特開平11-183727
出願日: 1997年12月22日
公開日(公表日): 1999年07月09日
要約:
【要約】【課題】 安価、かつ大量生産が可能であり、しかも消光比が高く、性能および信頼性が極めて高い共鳴吸収効果タイプの偏光板の製造方法を提供する。【解決手段】 透光性のある偏光マトリックス層の中に、複数の棒状の偏光棒状体がその長軸方向を一定方向に向けて配列された形態を有する共鳴吸収効果タイプの偏光板の製造方法において、(1)棒状の偏光棒状体の配列パターンに対応する凹凸パターンを有する成形型を準備する成形型準備工程と、(2)基板の上に直接または間接に樹脂層を形成し、当該樹脂層に上記成形型を押しつけて、当該樹脂層に凹凸パターンを形成する樹脂層凹凸パターン形成工程と、(3)この凹凸パターンを利用して、棒状の偏光棒状体を配列状態に形成させる偏光棒状体形成工程と、(4)形成された棒状の偏光棒状体を埋めるように透光性のある偏光マトリックス層を形成する偏光マトリックス層形成工程と、を有してなるように構成する。
請求項(抜粋):
透光性のある偏光マトリックス層の中に、複数の棒状の偏光棒状体がその長軸方向を一定方向に向けて配列された形態を有する共鳴吸収効果タイプの偏光板の製造方法において、該偏光板の製造方法は、(1)棒状の偏光棒状体の配列パターンに対応する凹凸パターンを有する成形型を準備する成形型準備工程と、(2)基板の上に直接または間接に樹脂層を形成し、当該樹脂層に上記成形型を押しつけて、当該樹脂層に凹凸パターンを形成する樹脂層凹凸パターン形成工程と、(3)この凹凸パターンを利用して、棒状の偏光棒状体を配列状態に形成させる偏光棒状体形成工程と、(4)形成された棒状の偏光棒状体を埋めるように透光性のある偏光マトリックス層を形成する偏光マトリックス層形成工程と、を有してなることを特徴とする偏光板の製造方法。
IPC (4件):
G02B 5/30
, B29D 11/00
, C23C 14/04
, B29K105:22
FI (3件):
G02B 5/30
, B29D 11/00
, C23C 14/04 Z
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
偏光光学素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-351448
出願人:ソニー株式会社
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