特許

J-GLOBAL ID：200903050778450111

光ファイバー加工用位相マスクの製造方法及びその光ファイバー加工用位相マスクを使用して作製されたブラッグ回折格子付き光ファイバー

発明者： 瀬川 敏一 ,  栗原 正彰 ,  小向 哲郎 ,  中沢 正隆
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社 ,  日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-051487
公開番号（公開出願番号）：特開2001-242313
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【課題】 作製される光ファイバー回折格子のスペクトル波形並びに群遅延特性を悪化させる繋ぎエラーを少なくした光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。【解決手段】 透明基板の1面に格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光を光ファイバーに照射して異なる次数の回折光相互の干渉縞により光ファイバー中に回折格子を作製する光ファイバー加工用位相マスクの製造方法において、ピッチが線形あるいは非線形に増加あるいは減少し、凹溝と凸条の幅の比が一定の複数のパターンP1 〜P5 を相互に並列したマスクを作製する際に、異なるピッチデータを持つパターン間の接続部分のピッチと個別パターン内のピッチとのずれを小さくするために多重露光する。

請求項（抜粋）：

透明基板の1面に格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光を光ファイバーに照射して異なる次数の回折光相互の干渉縞により光ファイバー中に回折格子を作製する光ファイバー加工用位相マスクの製造方法において、ピッチが線形あるいは非線形に増加あるいは減少し、凹溝と凸条の幅の比が一定の複数のパターンを相互に並列したマスクを作製する際に、異なるピッチデータを持つパターン間の接続部分のピッチと個別パターン内のピッチとのずれを小さくするために多重露光することを特徴とするファイバー加工用位相マスクの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/18 ,  G02B 6/10

FI (2件)：

G02B 5/18 ,  G02B 6/10 C

Fターム (11件)：

2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA45 ,  2H049AA52 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62 ,  2H049AA65 ,  2H050AC82 ,  2H050AC84

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光ファイバー加工用位相マスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-170856   出願人：大日本印刷株式会社
• 光ファイバー加工用位相マスクの製造方法及びその光ファイバー加工用位相マスクを使用して作製されたブラッグ回折格子付き光ファイバー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-238438   出願人：大日本印刷株式会社, 日本電信電話株式会社
• 特開平3-188617
  
• 露光装置の評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-012447   出願人：株式会社ニコン