光ファイバー加工用位相マスクの製造方法及びその光ファイバー加工用位相マスクを使用して作製されたブラッグ回折格子付き光ファイバー

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：韮澤弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-238438
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084623
出願日： 1997年09月03日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】光ファイバー加工用位相マスクにおいて、作製される光ファイバー回折格子の波長選択性を悪化させる繋ぎエラーを少なくした位相マスクの製造方法。【解決手段】露光工程において、描画ステージ5上に位相マスクブランク10を載置し、描画ステージ5を一方向へ連続的に送りながらその送り方向に直交する凹溝26又は凸条27に対応する位相マスクブランク部分を描画ビーム14で順次走査することにより、位相マスクブランク10の全描画領域を連続的に描画する。

請求項（抜粋）：

透明基板の1面に格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光を光ファイバーに照射して異なる次数の回折光相互の干渉縞により光ファイバー中に回折格子を作製する光ファイバー加工用位相マスクの製造方法において、露光工程において、描画ステージ上に位相マスクブランクを載置し、描画ステージを一方向へ連続的に送りながらその送り方向に直交する凹溝又は凸条に対応する位相マスクブランク部分を描画ビームで順次走査することにより、位相マスクブランクの全描画領域を連続的に描画することを特徴とする光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 , G02B 5/18 , G02B 6/10 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 A , G02B 5/18 , G02B 6/10 C , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (10件)

電子線リソグラフィを用いる回折格子製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-342035 出願人：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
特開平2-230112
特開昭53-094773

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