特許
J-GLOBAL ID：200903050785274574

焼成皮膜形成用オルガノポリシロキサン組成物

発明者：
岩淵 元亮

岩淵 元亮 について

, 
山谷 正明

山谷 正明 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-291833
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119595
出願日： 1998年10月14日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：
【要約】【解決手段】 (A)R3SiO1/2(Rは水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜6の一価炭化水素基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい)で表される単位とSiO4/2で表される単位を含み、R3SiO1/2単位とSiO4/2単位とのモル比が0.6〜1.1であるシリコーン樹脂:80重量部以上95重量部以下、(B)下記一般式(1)【化1】(R1は互いに同一又は異種で、水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜12の一価炭化水素基を示し、nは1以上の整数である。)で表されるジオルガノポリシロキサン:5重量部以上20重量部以下、(C)有機溶剤:(A)及び(B)成分の合計100重量部に対して40重量部を超え500重量部以下を主成分とする焼成皮膜形成用オルガノポリシロキサン組成物。【効果】 本発明のオルガノポリシロキサン組成物は、各種基材に対し耐熱性、密着性に優れた焼成皮膜層を形成し得る。
請求項（抜粋）：
(A)R3SiO1/2(Rは水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜6の一価炭化水素基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい)で表される単位とSiO4/2で表される単位を含み、R3SiO1/2単位とSiO4/2単位とのモル比が0.6〜1.1であるシリコーン樹脂:80重量部以上95重量部以下、(B)下記一般式(1)【化1】(R1は互いに同一又は異種で、水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜12の一価炭化水素基を示し、nは1以上の整数である。)で表されるジオルガノポリシロキサン:5重量部以上20重量部以下、(C)有機溶剤:(A)及び(B)成分の合計100重量部に対して40重量部を超え500重量部以下を主成分とする焼成皮膜形成用オルガノポリシロキサン組成物。
IPC (2件)：
C09D183/04 ,  C09D183/14
FI (2件)：
C09D183/04 ,  C09D183/14
Fターム (13件)：
4J038AA011 ,  4J038DL011 ,  4J038DL052 ,  4J038HA446 ,  4J038KA06 ,  4J038MA14 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038PA19 ,  4J038PC01 ,  4J038PC02 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08
引用特許：
審査官引用 (18件)
  • 特開平1-215855
  • 特開平4-180977
  • 特開昭55-118958
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