溶液製膜方法および装置ならびに偏光板

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松浦憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-298407
公開番号（公開出願番号）：特開2003-103543
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】溶液製膜法により製膜したフイルムを用いた偏光板等の支持体自体の乾燥技術に関するもので乾燥ムラのない優れた平面性をもつフィルムを得ることができる。【解決手段】流延ダイ7より走行する流延バンド10上にドープを流延してフイルムを製造する溶液製膜方法において、流延の直後に流延膜中の溶媒を凝縮、回収するドライヤ21を配設して流延膜を乾燥するようにした。

請求項（抜粋）：

流延ダイより走行または回転する流延支持体上にドープを流延してフイルムを製造する溶液製膜方法において、前記流延の直後に流延膜中の溶媒を凝縮、回収するドライヤを配設して前記流延膜を乾燥するようにしたことを特徴とする溶液製膜方法。

IPC (11件)：

B29C 41/28 , B29C 41/46 , B29C 41/52 , F26B 3/30 , F26B 3/347 , F26B 23/04 , F26B 23/08 , G02B 5/30 , G02F 1/1335 , G02F 1/1335 510 , B29L 7:00

FI (11件)：

B29C 41/28 , B29C 41/46 , B29C 41/52 , F26B 3/30 , F26B 3/347 , F26B 23/04 B , F26B 23/08 C , G02B 5/30 , G02F 1/1335 , G02F 1/1335 510 , B29L 7:00

Fターム (47件)：

2H049BA02 , 2H049BB18 , 2H049BB33 , 2H049BC09 , 2H049BC21 , 2H049BC22 , 2H091FA08X , 2H091FA08Z , 2H091FA50X , 2H091FA50Z , 2H091FB02 , 2H091FC08 , 2H091FC29 , 2H091GA16 , 2H091LA30 , 3L113AA06 , 3L113AB05 , 3L113AB06 , 3L113AC10 , 3L113AC12 , 3L113AC21 , 3L113AC29 , 3L113AC32 , 3L113AC36 , 3L113AC48 , 3L113AC64 , 3L113AC86 , 3L113BA28 , 3L113CA04 , 3L113CA05 , 3L113DA06 , 3L113DA24 , 4F205AC05 , 4F205AG01 , 4F205AH73 , 4F205AR06 , 4F205AR09 , 4F205AR20 , 4F205GA07 , 4F205GC02 , 4F205GC07 , 4F205GF03 , 4F205GF24 , 4F205GN13 , 4F205GN18 , 4F205GN22 , 4F205GN24

引用特許：

審査官引用 (8件)

セルロースアセテートフイルム、その製造方法および偏光板保護膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-177719 出願人：富士写真フイルム株式会社
セルローストリアセテートフィルムの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-002331 出願人：コニカ株式会社
被覆基材乾燥システム
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-512750 出願人：ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー

全件表示

前のページに戻る