特許

J-GLOBAL ID：200903068099403100

塗布膜の乾燥方法及び装置

発明者： 石塚 誠治 ,  中嶌 賢二 ,  小林 寛修 ,  柴田 敏夫
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-359392
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170547
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】塗布液の粘度等の物性や溶媒の種類を変更することなく塗布膜を均一に乾燥できる。【解決手段】塗布直後に乾燥ゾーン14を設け、乾燥ゾーン14外からの強さや方向の不均一な風が塗布膜面に直接当たらないようにし、塗布膜面から蒸発した有機溶剤が塗布膜面を覆う乾燥環境が形成される。そして、この乾燥環境下で、乾燥ゾーン14にウエブ12幅方向の一方端から他方端に流れる1方向流れの規則的な乾燥風を発生させる。

請求項（抜粋）：

走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、前記塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に前記乾燥ゾーンに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させたことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。

IPC (4件)：

B05C 9/14 ,  B05D 3/02 ,  F26B 13/00 ,  G02B 5/30

FI (4件)：

B05C 9/14 ,  B05D 3/02 D ,  F26B 13/00 Z ,  G02B 5/30

Fターム (20件)：

2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BC04 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  3L113AA02 ,  3L113AB02 ,  3L113AC31 ,  3L113BA26 ,  3L113CB40 ,  3L113DA24 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB33Z ,  4D075DA04 ,  4D075DC24 ,  4F042AA22 ,  4F042DB02 ,  4F042DB25 ,  4F042DB36 ,  4F042DB37

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 長尺状光学補償シートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-255598   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-181911   出願人：楯節男
• 特開昭57-190668
  
• 特開昭57-190668
  
• 長尺状光学補償シートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-108406   出願人：富士写真フイルム株式会社