特許
J-GLOBAL ID:200903050796368155

気体状の流体から汚染物質を浄化および除去するためのシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-532909
公開番号(公開出願番号):特表2007-500055
出願日: 2004年05月10日
公開日(公表日): 2007年01月11日
要約:
気体状の流体から汚染物質を浄化および除去するための本システムおよびこれに対応する方法は、ハウジングを含み、このハウジングはインレット、アウトレット、およびハウジング内に配置された細長いUVチャンバーを含む。UV放射源がUVチャンバー内において縦方向に配置されている。UVチャンバー内における気体状流体の流れを制限するため、ならびにUVチャンバー内において気体状流体の乱流を発生させるため、少なくとも1つのバッフル構造がハウジング内の上流側に配置されている。更に、ハウジングを通じる気体状流体の選定された流量での流れを促進するため、ファンがハウジング内の選定された位置に配置されている。UVチャンバーおよびUV放射源の寸法、ならびにバッフル構造の形状は、UVチャンバーを通じて流れる流体の曝露時間および混合を増大するように、更には、流動する流体のUV放射源への近接を増大させるように選択されている。
請求項(抜粋):
気体状流体を浄化するためのシステムであって、 ハウジングであって、インレット、アウトレット、および該ハウジング内に配置された細長いUVチャンバーを含む、ハウジングと、 該UVチャンバー内に長手方向に配置されたUV放射源と、 該UVチャンバー内における気体状流体の流れを制限するため、および該UVチャンバー内において気体状流体の乱流を発生させるために、該ハウジング内における上流側の場所に配置された少なくとも1つのバッフル構造と、 該ハウジングを通じる気体状流体の選定された流量における流れを促進するため、該ハウジング内の選定された場所に配置されたファンと を含み、該UVチャンバーおよびUV放射源の寸法、ならびに該バッフル構造の形状が、該UVチャンバーを通じて流れる流体の曝露時間および混合を増大させ、かつ流動している該流体の該UV放射源への近接度を増大させるように選択されている、システム。
IPC (2件):
A61L 9/20 ,  B01J 35/02
FI (2件):
A61L9/20 ,  B01J35/02 J
Fターム (10件):
4C080AA10 ,  4C080BB05 ,  4C080QQ01 ,  4C080QQ17 ,  4G169AA03 ,  4G169BA04B ,  4G169CA11 ,  4G169HA01 ,  4G169HB01 ,  4G169HF02
引用特許:
審査官引用 (9件)
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