処理装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：上島淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-084026
公開番号（公開出願番号）：特開2001-261151
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】被処理物たる基板の処理が行われる処理室の内部空間へ基板を搬入する際や、当該処理室の外部へ基板を搬出する際に、処理気体が外部に漏れ出すことを防止できるようにする。【解決手段】処理室内に処理気体を充填して当該処理気体により被処理物の処理を行う処理装置において、上記処理室の内部と上記処理室の外部とを遮断する液体を備えた遮断手段を有する。

請求項（抜粋）：

処理室内に処理気体を充填して該処理気体により被処理物の処理を行う処理装置において、前記処理室の内部と前記処理室の外部とを遮断する液体を備えた遮断手段を有するものである処理装置。

IPC (7件)：

B65G 49/00 , B01J 19/00 , B65G 49/02 , B65G 49/07 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/68

FI (7件)：

B65G 49/00 C , B01J 19/00 D , B65G 49/02 H , B65G 49/07 B , C23F 4/00 Z , H01L 21/205 , H01L 21/68 A

Fターム (33件)：

4G075AA22 , 4G075AA30 , 4G075BA06 , 4G075BD03 , 4G075BD14 , 4G075CA62 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EE40 , 4G075FC13 , 4K057DA01 , 4K057DB06 , 4K057DE20 , 4K057DM36 , 4K057DM40 , 4K057DN01 , 4K057WN01 , 5F031CA02 , 5F031DA08 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031GA53 , 5F031MA28 , 5F031NA08 , 5F045BB20 , 5F045DP23 , 5F045DQ15 , 5F045EB08 , 5F045EB10 , 5F045EG08 , 5F045EN04 , 5F045HA25

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平4-305927
ウェット処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-070114 出願人：株式会社中央理研
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-164623 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (7件)

特開平4-305927
特開平4-305927
ウェット処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-070114 出願人：株式会社中央理研

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