特許
J-GLOBAL ID：200903050831117764
露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-141320
公開番号（公開出願番号）：特開2003-332221
出願日： 2002年05月16日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：
【要約】【課題】 高速に微細なパターンを露光することができる露光装置を提供する。【解決手段】 感光材料にパターンを露光する露光装置において、反射光を変調する微小ミラー群を有するDMDが設けられたヘッド部、基板を保持するステージ、並びに、ヘッド部およびステージを相対的に移動する機構が設けられる。DMDの各微小ミラーからの光は基板上の光照射領域61へと導かれ、基板がヘッド部に対して移動することにより、光照射領域61が基板上を移動する。DMDは、光照射領域61の配列が主走査方向に関して傾斜するようにヘッド部に設けられ、およそ主走査方向に隣接する2つの光照射領域61間の副走査方向に対する距離L1は基板上の描画セル620の副走査方向のピッチP1と等しくされる。これにより、各描画セル620を中心とする重複露光を行うことができ、精度よくパターンの線幅を制御しつつ高速に露光を行うことができる。
請求項（抜粋）：
感光材料を露光する露光装置であって、格子状に配列された光照射領域群のそれぞれへと光を照射する光照射手段と、感光材料上において前記光照射領域群を配列方向に対して傾斜した走査方向に走査させ、前記感光材料上の複数の露光領域のそれぞれに対して複数の光照射領域を通過させる走査手段と、前記光照射領域群の走査に同期しつつ前記光照射領域群への光照射のON/OFFを個別に制御することにより、前記感光材料上の各露光領域に照射される光の量を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 505
G03F 7/20 505
, H01L 21/30 518
, H01L 21/30 514 A
, H01L 21/30 516 D
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 529
2H097AA03
, 2H097CA17
, 2H097LA09
, 2H097LA10
, 5F046AA11
, 5F046BA05
, 5F046CB01
, 5F046CB02
, 5F046CB18
, 5F046CB23
, 5F046CC01
, 5F046CC03
, 5F046DA03
, 5F046DA11
