特許
J-GLOBAL ID:200903050922947840
ガスバリア性積層材及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-248759
公開番号(公開出願番号):特開2004-082598
出願日: 2002年08月28日
公開日(公表日): 2004年03月18日
要約:
【課題】飲食品や医薬品、電子部材等のパッケージ材料及び、有機エレクトロルミネッセンス素子、液晶用表示素子等の基材として用いる場合においての発光素子の劣化等を抑えるのに必要な水蒸気、酸素ガス等に対して優れたガスバリア性積層材及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】基材の少なくとも片面に、基材側から金属(酸化物)膜または金属窒化膜、有機層を積層した単位、または基材側から有機層、金属(酸化物)膜または金属窒化膜を積層した単位を、少なくとも1回以上設けたガスバリア性積層材において、最表面層ではない金属(酸化物)膜または金属窒化膜、あるいは有機層を洗浄後、積層した構成にしたので、水蒸気、酸素ガス等の透過の抑制ができるガスバリア性に優れ、金属(酸化物)膜または金属窒化膜のガスバリア膜の平坦性に優れ、有機EL発光素子の発光性の劣化等を抑えることが可能となった。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材の少なくとも片面に、基材側から金属酸化物膜または金属窒化膜または金属膜、有機層を積層した単位、または基材側から有機層、金属酸化物膜または金属窒化膜または金属膜を積層した単位を、少なくとも1回以上設けたガスバリア性積層材において、最表面層ではない金属酸化物膜または金属窒化膜または金属膜、あるいは有機層を洗浄後、積層したことを特徴とするガスバリア性積層材。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (94件):
4F100AA10B
, 4F100AA10C
, 4F100AA10D
, 4F100AA10E
, 4F100AA12B
, 4F100AA12C
, 4F100AA12D
, 4F100AA12E
, 4F100AA17B
, 4F100AA17C
, 4F100AA17D
, 4F100AA17E
, 4F100AA19B
, 4F100AA19C
, 4F100AA19D
, 4F100AA19E
, 4F100AA20B
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, 4F100AA20D
, 4F100AA20E
, 4F100AA21B
, 4F100AA21C
, 4F100AA21D
, 4F100AA21E
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, 4F100AB01C
, 4F100AB01D
, 4F100AB01E
, 4F100AB11B
, 4F100AB11C
, 4F100AB11D
, 4F100AB11E
, 4F100AB13B
, 4F100AB13C
, 4F100AB13D
, 4F100AB13E
, 4F100AB16B
, 4F100AB16C
, 4F100AB16D
, 4F100AB16E
, 4F100AB21B
, 4F100AB21C
, 4F100AB21D
, 4F100AB21E
, 4F100AB25B
, 4F100AB25C
, 4F100AB25D
, 4F100AB25E
, 4F100AG00A
, 4F100AH06
, 4F100AK01A
, 4F100AK01B
, 4F100AK01C
, 4F100AK01D
, 4F100AK01E
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA05
, 4F100BA06
, 4F100BA07
, 4F100BA08
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100BA10E
, 4F100BA13
, 4F100EH46
, 4F100EH462
, 4F100EH61
, 4F100EH612
, 4F100EH66
, 4F100EH662
, 4F100EJ61
, 4F100EJ612
, 4F100EJ85
, 4F100EJ852
, 4F100GB16
, 4F100GB41
, 4F100GB66
, 4F100JB13B
, 4F100JB13C
, 4F100JB13D
, 4F100JB13E
, 4F100JB14B
, 4F100JB14C
, 4F100JB14D
, 4F100JB14E
, 4F100JD02
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 4F100YY00D
, 4F100YY00E
引用特許:
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