レジスト下層膜用組成物及びこれを用いたレジスト下層膜

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：正林真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-102018
公開番号（公開出願番号）：特開2007-279135
出願日： 2006年04月03日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：

【課題】レジストパターンの裾引きを低減するとともに、該パターンの形状を改善することが可能なレジスト下層膜用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜を提供する。【解決手段】シロキサン系重合体を含有するレジスト下層膜用組成物中に、所定量の4級アンモニウム化合物を含有した。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

シロキサン系重合体と、4級アンモニウム化合物と、を含有するレジスト下層膜用組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/11 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/11 503 , H01L21/30 574

Fターム (3件)：

2H025AB16 , 2H025DA34 , 5F046PA07

引用特許：

出願人引用 (2件)

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