特許
J-GLOBAL ID:200903051080410041

基準マーク構造体、その製造方法及びそれを用いた荷電粒子線露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細江 利昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-055367
公開番号(公開出願番号):特開2000-252204
出願日: 1999年03月03日
公開日(公表日): 2000年09月14日
要約:
【要約】【課題】 電子光学系の基準位置と光学式アライメントセンサーの基準位置間距離の計測に使用することができ、かつ、正確な位置測定が可能な基準マーク構造体を提供する。【解決手段】 石英からなる下地基板1の上面に段差のある重金属2が設けられ、重金属2で覆われていない下地基板1の表面は、導電性材料によるコート3で覆われている。重金属としては、Ta、W、Ptを用いることが好ましい。重金属2の段差の厚い部分は、0.5μm以上とされており、薄い部分は0.2μm以下とされていて、マークを構成する厚い部分とそうでない部分で、反射電子発生量の差が大きく、十分なコントラストが得られるようになっている。重金属2で覆われていない下地基板1の表面が導電性材料によるコート3で覆われているので、チャージアップが発生しない。
請求項(抜粋):
荷電粒子線露光装置の試料ステージ上に設置され、装置の較正や、マスクアライメント等に使用される基準マーク構造体であって、基準マークが重金属の薄膜で構成され、下地基板が熱膨張係数10-7/°C以下の材料で構成されると共に、当該下地基板が、表面に露出しないように、重金属以外の導電性薄膜で被覆されていることを特徴とする基準マーク構造体。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00
FI (4件):
H01L 21/30 541 K ,  G03F 1/08 C ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H
Fターム (11件):
2H095BA08 ,  2H095BB10 ,  2H095BB37 ,  2H095BE09 ,  2H097CA16 ,  2H097KA15 ,  2H097KA16 ,  2H097LA10 ,  5F056BA08 ,  5F056BD04 ,  5F056FA06
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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