特許
J-GLOBAL ID：200903048475311882

投影露光装置

発明者：
西 健爾

西 健爾 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-302737
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144593
出願日： 1996年11月14日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 露光光の照明条件が切り換えられたような場合でも高精度にレチクルアライメントやベースラインチェックを行う。【解決手段】 露光光のもとでレチクル12上のアライメントマーク29A,30Aの像を投影光学系8を介して投影し、その像をウエハステージ上の開口パターン41A,41Bで相対走査する。開口パターン41A,41Bを透過した露光光を光ファイバ42A,42B等を介して光電センサ64A,64Bで受光して得られる光電信号より、開口パターン41A,41Bに対するアライメントマーク29A,29Bの位置ずれ量を求める。次に偏向ミラー15,16を露光光の光路中に設定して、不図示のレチクルアライメント系で開口パターン41A,41Bに対するアライメントマーク29A,29Bの位置ずれ量を検出し、2つの位置ずれ量の差分よりレチクルアライメント系のオフセットを求める。
請求項（抜粋）：
位置合わせ用マーク及び転写用パターンが形成されたマスクを露光光で照明する照明光学系と、前記露光光のもとで前記マスクの前記転写用パターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を移動する基板ステージとを備えた投影露光装置において、前記基板ステージ上に形成された第1の基準マークと、前記基板ステージ上に形成された透過型の第2の基準マークと、前記マスクの上方に配置され、前記露光光と同じ波長域の照明光のもとで前記投影光学系を介して前記基板ステージ上の前記第1又は第2の基準マークと前記マスク上の位置合わせ用マークとの位置ずれ量を検出するマスク側のアライメントセンサと、前記露光光と同じ波長域で、且つ同じ照明条件の照明光のもとで前記マスク上の位置合わせ用マークの前記投影光学系による投影像を前記第2の基準マークを介して検出する空間像センサと、を設けたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (2件)：
H01L 21/30 525 N ,  G03F 9/00 H
引用特許：
出願人引用 (4件)
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